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Gallium Nitride (GaN) plasma etch for high efficiency µLED applications ; Gravure Plasma du Nitrure de Gallium pour la réalisation de micro LEDs à hautes performances

• Authors : Catala, Antoine;

Subjects: Gallium Nitride; Dry etch; MicroLED

• Source: https://theses.hal.science/tel-04709947 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2024. Français. ⟨NNT : 2024GRALT041⟩.

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Development of O2 plasma etching for the fabrication of diamond power devices ; Développement de la gravure plasma O2 pour la réalisation de composants de puissance diamant

• Authors : Gourad, Raid; Makhoul, Ralph; Isoird, Karine ...

Subjects: Diamond; MOS - Metal Oxide SemiConductor - Component; Reactive ion etchingLILLE; France

• Source: Sysmpsoium de Génie électrique SGE 2023 ; https://laas.hal.science/hal-04127068 ; Sysmpsoium de Génie électrique SGE 2023, Université de Lille, Jul 2023, LILLE, France

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Process development of plasma etching for Si3N4 gate spacer for 3D architectured transistors production ; Développement de procédés de gravure plasma d’espaceurs de grille en Si3N4 pour la réalisation de transistors en architecture 3D

• Authors : Bacquie, Valentin;

Subjects: Plasma etching; Spacers gate; Si3N4

• Source: https://theses.hal.science/tel-03702396 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2022. Français. ⟨NNT : 2022GRALT019⟩.

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Développement de procédés de gravure plasma d’espaceurs de grille en Si3N4 pour la réalisation de transistors en architecture 3D ; Process development of plasma etching for Si3N4 gate spacer for 3D architectured transistors production

• Authors : Bacquié, Valentin;

Subjects: Gravure plasma; Espaceurs de grille; Si3N4620

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Gravure plasma de copolymères à bloc dit « high-χ » ; Plasma etching of high-χ block copolymers

• Authors : Gusmao cacho, Maria;

Subjects: Gravure plasma; Copolymères à blocs; Auto-Assemblage guidé620

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Développement d'un procédé de gravure plasma pour la fabrication de composants photoniques à base d'hétérostructures InP/InGaAsP

• Authors : Aimez, Vincent; Arès, Richard; Mounier, Maxence

Subjects: Mémoire

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Plasma etching of high-χ block copolymers ; Gravure plasma de copolymères à bloc dit « high-χ »

• Authors : Gusmao Cacho, Maria;

Subjects: Directed Self-Assembly; Block copolymers; Plasma etching

• Source: https://theses.hal.science/tel-03524057 ; Micro and nanotechnologies/Microelectronics. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2021. English. ⟨NNT : 2021GRALT056⟩.

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Développement de procédés de gravure plasma sans dommage pour l'électronique de puissance à base de GaN ; Development of damage-free plasma etching processes for GaN based power electronics

• Authors : Le roux, Frédéric;

Subjects: Gravure plasma; Electronique de puissance; Hemt620

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Development of damage-free plasma etching processes for GaN based power electronics ; Développement de procédés de gravure plasma sans dommage pour l'électronique de puissance à base de GaN

• Authors : Le Roux, Frédéric;

Subjects: Plasma etching; Power electronics; Hemt

• Source: https://theses.hal.science/tel-03052022 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes [2020-.], 2020. Français. ⟨NNT : 2020GRALT017⟩.

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Développement de procédés de gravure plasma sans dommages pour l'intégration de l'InGaAs comme canal tridimensionnel de transistor nMOS non-planaire ; Development of damage free plasma etching processes for the integration of InGaAs as non-planar nMOS transistor tridimensional channel

• Authors : Bizouerne, Maxime;

Subjects: Procédés de gravure plasma; Défauts induits par plasma; InGaAs620

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