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Développement de la nanostructuration de germanium par gravure électrochimique pour des applications en tant qu'anode sur puce pour batterie lithium-ion

• Authors : Arès, Richard; Boucherif, Abderraouf; Dupuy, Arthur

Subjects: Germanium mésoporeux; Électrochimie de semi-conducteur; Graphène

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Fabrication et caractérisation de nanocristaux de silicium localisés, réalisés par gravure électrochimique pour des applications nanoélectroniques

• Authors : Drouin, Dominique; Beauvais, Jacques; Ayari-Kanoun, Asma

Subjects: Nitrure de silicium; Gravure plasma; Lithographie électronique

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Etude des procédés de gravure électrochimique du silicium pour l'intégration monolithique de composants passifs sur silicium poreux et la réalisation de chemins d'interconnexion ; Study of silicon electrochemical etching process for monolithic integration of passive components on porous silicon and for the realization of through silicon via

• Authors : Coudron, Loïc;

Subjects: Procédés de gravure électrochimique; Intégration monolithique; Composants passifs

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Elaboration de masques polymère pour la localisation du silicium poreux ; Elaboration of polymer masks for the localisation of porous silicon

• Authors : Monnier, Lisa;

Subjects: Chimie des matériaux; Film mince; Gravure électrochimique du silicium

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Croissance épitaxiale de Germanium et de matériaux III-V sur des substrats de Germanium mésoporeux, pour des applications photovoltaïques

• Authors : Paupy, Nicolas;

Subjects: Ge homoepitaxy; III-V heteroepitaxial growth; Ge electrochemical etching

• Source: https://hal.science/tel-04676756 ; Sciences de l'ingénieur [physics]. Université de Sherbrooke (Québec, Canada), 2024. Français. ⟨NNT : ⟩.

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Improvement of the industrial applicability of the PEELER approach for III-V solar cells detachment from germanium substrates ; Amélioration de l'applicabilité industrielle de l'approche PEELER pour la fabrication de cellules solaires III-V détachables de leurs substrats de germanium

• Authors : Daniel, Valentin;

Subjects: GaAs; Photovoltaics Germanium GaAs Electrochemical Etching Detachment Microfabrication; Photovoltaics

• Source: https://hal.science/tel-04676750 ; Sciences de l'ingénieur [physics]. Université de Sherbrooke (Québec, Canada), 2024. Français. ⟨NNT : ⟩.

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Amélioration de l'applicabilité industrielle de l'approche PEELER pour la fabrication de cellules solaires III-V détachables de leurs substrats de germanium ; Improvement of the industrial applicability of the PEELER approach for III-V solar cells detachment from germanium substrates

• Authors : Daniel, Valentin;

Subjects: Cellules photovoltaïques; Germanium; GaAs

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Synthèse, caractérisation physico-chimique et propriétés thermoélectriques du silicium mésoporeux : apport de l'insertion de nanographène ; Synthesis, physico-chemical characterization and thermoelectric properties of mesoporous silicon : contribution of nanographene insertion

• Authors : Nar, Sibel;

Subjects: Coefficient Seebeck; Silicium mésoporeux; Propriétés thermoélectriques

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Usinage par micro-électroérosion : études et analyses physico-chimiques des paramètres expérimentaux et apport de l’électrochimie sur l’état de surface ; Micro-electrical discharge machining : study and analysis of the experimental parameters

• Authors : Tafraouti, Asmae;

Subjects: Usinage par micro-Électroérosion; Gravure électrochimique de tungstène; Fraisage par micro-Électroérosion

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Synthesis, physico-chemical characterization and thermoelectric properties of mesoporous silicon : contribution of nanographene insertion ; Synthèse, caractérisation physico-chimique et propriétés thermoélectriques du silicium mésoporeux : apport de l'insertion de nanographène

• Authors : Nar, Sibel;

Subjects: Seebeck coefficient; Mesoporous Silicon; Thermoelectric properties

• Source: https://theses.hal.science/tel-04433510 ; Autre. Université d'Orléans; Université de Sherbrooke (Québec, Canada), 2023. Français. ⟨NNT : 2023ORLE1027⟩.

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