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Dissertation/ Thesis

Etude Ab initio des mécanismes réactionnels dans la phase initiale du dépôt par couches atomiques des oxydes à moyenne et forte permittivité sur silicium

Subjects: Dépôt par couches atomiques; Diélectrique de grille; Oxyde d'aluminium

  • Source: https://theses.hal.science/tel-00110050 ; Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Paul Sabatier - Toulouse III, 2006. Français. ⟨NNT : ⟩.

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