Item request has been placed! ×
Item request cannot be made. ×
loading  Processing Request

Development of n-type and p-type Mg2Si1-xSnx alloys for thermoelectrical applications in the temperature range 300-600 °C ; Développement de matériaux Mg2Si1-xSnx de type n et p pour applications thermoélectriques dans la gamme de température 300-600 °C

Item request has been placed! ×
Item request cannot be made. ×
loading   Processing Request
  • معلومة اضافية
    • Contributors:
      Laboratoire d'Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles et les nanomatériaux (LITEN); Institut National de L'Energie Solaire (INES); Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Savoie Mont Blanc (USMB Université de Savoie Université de Chambéry )-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Savoie Mont Blanc (USMB Université de Savoie Université de Chambéry )-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)); Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA); Université de Grenoble; Guillaume Bernard-Granger
    • بيانات النشر:
      CCSD
    • الموضوع:
      2014
    • Collection:
      Université Savoie Mont Blanc: HAL
    • نبذة مختصرة :
      N and P type Mg-Si-Sn and Mn-Si alloys have been investigated for thermoelectrical applications in the 20-600 °C temperature range. To manufacture dense sintered samples, only two steps have been used: mechanical-alloying followed by spark plasma sintering.By optimizing the processing conditions it was possible to obtain an n-Type Mg2Si0.4Sn0.6 material exhibiting a ZT parameter of 1.2 at 500 °C. By adding Half-Heusler nanoparticles to a Mg2Si0.4Sn0.6 matrix, it was shown that the ZT parameter is increased to 1.4 at 500 °C. Then strong links have been established between the processing parameters, the thermoelectrical properties and the sintered microstructure (use of transmission electron microscopy).The investigations performed on a p-type MnSi1.75 material are only preliminary ones. Nonetheless, always by tailoring the processing conditions, it was possible to obtain a sintered material exhibiting a ZT parameter of 0.45 at 575 °C ; Des alliages Mg-Si-Sn et Mn-Si, de type n et p respectivement, ont été étudiés pour des applications thermoélectriques dans la gamme de température 20-600 °C. Afin de fabriquer des matériaux denses, un procédé en deux étapes a été développé. La première étape est la fabrication des poudres mères par mécano-synthèse. La deuxième étape consiste en la densification des diverses poudres par la méthode de frittage SPS.En optimisant les conditions opératoires, un ZT de 1.2 a été obtenu à 500 °C pour un matériau de type n de composition Mg2Si0.4Sn0.6. En incorporant de surcroit une faible fraction volumique de nanoparticules de la famille des composés Half-Heusler, il a été possible de fabriquer un matériau présentant au final un ZT de 1.4 à 500 °C. Des liens forts ont été établis entre les paramètres expérimentaux de fabrication, les propriétés thermoélectriques et la microstructure des matériaux frittés (utilisation de la microscopie électronique en transmission).Concernant les études sur le matériau MnSi1.75 de type p, les résultats obtenus ne sont que préliminaires. Néanmoins, en ...
    • Relation:
      NNT: 2014GRENI109
    • الدخول الالكتروني :
      https://theses.hal.science/tel-03227678
      https://theses.hal.science/tel-03227678v1/document
      https://theses.hal.science/tel-03227678v1/file/VRACAR_2014_archivage.pdf
    • Rights:
      info:eu-repo/semantics/OpenAccess
    • الرقم المعرف:
      edsbas.85BF4260